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光催化劑超高速分散機(jī)

簡要描述:光催化劑超高速分散機(jī),光催化材料應(yīng)用中,一般需要將二氧化鈦分散到液體基料中,形成懸浮液,需要對光催化劑體系進(jìn)行研磨分散,使懸浮液(或乳化液)體系中的分散物微?;?、均勻化的處理過程,這種處理同時起降低分散物尺度和提高分散物分布均勻性的作用,使得光催化劑產(chǎn)品更穩(wěn)定。

  • 產(chǎn)品型號:GMSD2000
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2025-04-01
  • 訪  問  量:1726
詳情介紹

一、產(chǎn)品名稱概述:光催化劑超高速分散機(jī),光催化劑納米分散機(jī),光催化劑高剪切分散機(jī),光催化劑管線式分散機(jī),光觸媒超高速分散機(jī)

二、光催化劑的簡介

通俗意義上講觸媒就是催化劑的意思,光觸媒顧名思義就是光催化劑。催化劑是改變化學(xué)反應(yīng)速率的化學(xué)物質(zhì),其本身并不參與反應(yīng)。光催化劑就是在光子的激發(fā)下能夠起到催化作用的化學(xué)物質(zhì)的統(tǒng)稱。

三、光催化劑材料的種類

世界上能作為光觸媒的材料眾多,包括二氧化鈦,氧化鋅),氧化錫二氧化鋯,硫化鎘等多種氧化物硫化物半導(dǎo)體,其中二氧化鈦因其氧化能力強(qiáng),化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定無毒,成為世界上當(dāng)紅的納米光觸媒材料。在早期,也曾經(jīng)較多使用硫化鎘和氧化鋅作為光觸媒材料,但是由于這兩者的化學(xué)性質(zhì)不穩(wěn)定,會在光催化的同時發(fā)生光溶解,溶出有害的金屬離子具有一定的生物毒性,故發(fā)達(dá)國家目前已經(jīng)很少將它們用作為民用光催化材料,部分工業(yè)光催化領(lǐng)域還在使用。

二氧化鈦是一種半導(dǎo)體,分別具有銳鈦礦金紅石板鈦礦三種晶體結(jié)構(gòu),其中只有銳鈦礦結(jié)構(gòu)和金紅石結(jié)構(gòu)具有光催化特性。

 

四、光催化原理

因為生產(chǎn)光催化劑的材料幾乎都是固體半導(dǎo)體材料,因此光催化又稱為半導(dǎo)體光催化。光催化氧化的機(jī)理是用固體能帶理論來解釋的。

根據(jù)固體能帶理論,固體材料的能帶結(jié)構(gòu)可以分為價帶、禁帶和導(dǎo)帶三部分。導(dǎo)體的導(dǎo)帶和價帶發(fā)生了重合即其禁帶寬度為零,所以導(dǎo)體可以導(dǎo)電;絕緣體的禁帶寬度很大以至于價帶的電子很難被激發(fā)使其躍遷至導(dǎo)帶,所以絕緣體不導(dǎo)電;半導(dǎo)體的禁帶寬度介于導(dǎo)體與絕緣體之間,所以其在一定條件下可以導(dǎo)電。

在半導(dǎo)體中,所有價電子所處的能帶就是所謂的價帶,比價帶能量更高的能帶便是導(dǎo)帶,介于價帶和導(dǎo)帶之間的空隙稱之為禁帶。光催化氧化過程簡單的說就是價帶上的電子受到光照的激發(fā)躍遷至導(dǎo)帶,形成了電子和空穴,形成的電子-空穴對又引發(fā)了其他的一系列的反應(yīng)。

五、光催化劑材料的分散

光催化材料應(yīng)用中,一般需要將二氧化鈦分散到液體基料中,形成懸浮液,需要對光催化劑體系進(jìn)行研磨分散,使懸浮液(或乳化液)體系中的分散物微?;?、均勻化的處理過程,這種處理同時起降低分散物尺度和提高分散物分布均勻性的作用,使得光催化劑產(chǎn)品更穩(wěn)定。結(jié)合多家客戶案例,推薦GMSD2000系列超高速研磨分散機(jī),兩級結(jié)構(gòu),先研磨后分散,轉(zhuǎn)速0-18000rpm,研磨分散效果好,粒徑小,均勻度高。

六、光催化材料分散機(jī)的特點(diǎn)

1、光催化材料分散設(shè)備采用上海SGN技術(shù),*創(chuàng)意,融化理念。將SGN高剪切膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良,在原來GM2000系列的基礎(chǔ)上,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級模塊,加入了一級分散盤(均質(zhì)盤、乳化盤)。從而形成改良型的膠體磨,先研磨后分散(均質(zhì)、乳化),將物料的處理一步到底的完成,我們將這種改良的膠體磨也稱為“研磨分散機(jī)”。

2、SGN光催化材料納米分散機(jī)采用德國博格曼雙端面機(jī)械密封,在保證冷卻水的前提下,可24小時連續(xù)運(yùn)行。而普通分散機(jī)很難做到連續(xù)長時間的運(yùn)行,并且普通分散機(jī)不能承受高轉(zhuǎn)速的運(yùn)行。通過梳齒狀定子切割破碎,縫隙疏密決定細(xì)度大小,超高線速度的吸料式葉輪提供*切割力。

3、 GMSD2000系列光觸媒研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu):研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。一級由具有精細(xì)度遞升的三層鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。

七、光催化材料研磨分散機(jī)選型表

 

標(biāo)準(zhǔn)流量(H2O) 

輸出轉(zhuǎn)速 

標(biāo)準(zhǔn)線速度 

馬達(dá)功率 

進(jìn)出口尺寸 

型號 

l/h 

rpm 

m/s 

kW 

 

GMSD 2000/4 

300-1,000

14000

44

2.2

DN25/DN15

GMSD 2000/5 

1,000-1.500

10,500 

44

7.5 

DN40 /DN 32 

GMSD 2000/10 

3,000 

7,300 

44

15 

DN50 / DN50 

GMSD 2000/20 

8,000 

4,900 

44

37 

DN80 /DN 65 

GMSD 2000/30 

20,000 

2,850 

44

75 

DN150 /DN 125 

GMSD 2000/50 

40,000 

2,000 

44

160 

DN200 /DN 150 

光催化劑超高速分散機(jī),光催化劑納米分散機(jī),光催化劑高剪切分散機(jī),光催化劑管線式分散機(jī),光觸媒超高速分散機(jī)

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